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定制XRD冷熱臺(tái)

更新時(shí)間:2024-09-25      點(diǎn)擊次數(shù):154

XRD冷熱臺(tái)是一種用于X射線衍射(XRD)實(shí)驗(yàn)的設(shè)備,能夠在不同溫度條件下對(duì)樣品進(jìn)行分析。主要用于研究材料在升溫或降溫過(guò)程中的相變、晶體結(jié)構(gòu)變化和熱行為等。

主要功能

1.溫度控制:XRD冷熱臺(tái)能夠在非常廣泛的溫度范圍內(nèi)(從低溫到高溫,通常為-190°C至600°C或更高)精確控制樣品的溫度。這使得研究者可以模擬各種環(huán)境條件,如定點(diǎn)低溫或高溫下的晶體結(jié)構(gòu)行為。

2.原位觀測(cè):冷熱臺(tái)允許X射線衍射儀在樣品溫度變化的同時(shí)進(jìn)行原位測(cè)量,研究材料在加熱、冷卻過(guò)程中的相變、晶體結(jié)構(gòu)變化及其他熱相關(guān)現(xiàn)象。實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)避免了傳統(tǒng)方法中因溫度變化后樣品轉(zhuǎn)移帶來(lái)的誤差。

3.氣氛控制:XRD冷熱臺(tái)可以控制樣品周圍的氣氛,例如在真空、空氣、惰性氣體或特定的反應(yīng)氣體環(huán)境下進(jìn)行實(shí)驗(yàn)。這樣可以模擬實(shí)際工作條件,如催化劑在反應(yīng)氣氛下的相變行為。

4.精確的溫度梯度:冷熱臺(tái)能夠提供穩(wěn)定的升溫和降溫速率,允許用戶對(duì)材料進(jìn)行快速升溫或緩慢的熱處理實(shí)驗(yàn),從而研究不同溫度變化速率下材料的行為。

應(yīng)用領(lǐng)域

1.材料科學(xué):用于研究材料的熱膨脹、相變、熱分解等過(guò)程,幫助開(kāi)發(fā)和優(yōu)化新型材料,如高溫超導(dǎo)體、功能陶瓷等。

2.地質(zhì)學(xué):在高溫高壓條件下,研究礦物的相變行為以及地殼、地幔材料在定點(diǎn)環(huán)境下的晶體結(jié)構(gòu)變化。

3.化學(xué)與催化研究:催化劑材料在反應(yīng)條件下的穩(wěn)定性和結(jié)構(gòu)變化是研究的重要方向,XRD冷熱臺(tái)為此類實(shí)驗(yàn)提供了原位分析的手段。

4.物理研究:研究熱電材料、磁性材料等的結(jié)構(gòu)變化,以及材料在低溫下的超導(dǎo)性研究。

設(shè)備結(jié)構(gòu)

XRD冷熱臺(tái)的設(shè)備結(jié)構(gòu)主要包括溫度控制系統(tǒng)、樣品臺(tái)、數(shù)據(jù)采集和分析系統(tǒng)以及機(jī)械結(jié)構(gòu)。溫度控制系統(tǒng)由加熱元件和制冷裝置組成,用于精確調(diào)節(jié)樣品溫度。樣品臺(tái)配備樣品夾具和溫度傳感器,確保樣品穩(wěn)定并實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)溫度,數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)通過(guò)計(jì)算機(jī)進(jìn)行實(shí)驗(yàn)控制和數(shù)據(jù)分析。最后,機(jī)械結(jié)構(gòu)提供支撐和調(diào)整機(jī)制,確保設(shè)備的穩(wěn)定性和精確性。這些部分的協(xié)同工作使XRD冷熱臺(tái)能夠有效研究材料在不同溫度條件下的熱行為和相變特性。

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選購(gòu)參考

簡(jiǎn)要參數(shù):

•溫度范圍:-190~600℃ / RT~1200℃

•溫度穩(wěn)定性:±0.1℃(<600℃)±1℃(>600℃)

•支持反射/透射模式

•氣密腔室,可通保護(hù)氣體

•腔室可升級(jí)真空腔室(10^(-3)  mbar)

•上位機(jī)軟件控制

•支持改動(dòng)或定制


參數(shù)一覽表:

圖片

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